你的位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > 光學(xué)儀器 > 激光衰減器 >手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M
產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)
手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M
- 產(chǎn)品型號(hào)：
- 更新時(shí)間：2024-04-15
- 產(chǎn)品介紹：手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M4Lasers設(shè)計(jì)和制造工業(yè)級(jí)手動(dòng)控制激光功率衰減器，用于240 nm至2000 nm的紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光和近紅外光譜范圍。這些激光功率衰減器的所有光學(xué)元件都是為高LIDT而制造的，即使在工業(yè)應(yīng)用中與高功率激光器一起使用時(shí)，也能提供穩(wěn)定可靠的性能。
- 廠商性質(zhì)：代理商
- 在線(xiàn)留言
產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
|---|
手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M
主要特點(diǎn)
l 寬波長(zhǎng)采用240 nm-2µm
l 有成本效率的
l 適用于高功率工業(yè)激光器
l 提供帶水冷功能的型號(hào)
應(yīng)用實(shí)例
l 激光微加工
l 激光功率衰減
l 研究
描述
4Lasers設(shè)計(jì)和制造工業(yè)級(jí)手動(dòng)控制激光功率衰減器，用于240 nm至2000 nm的紫外線(xiàn)、可見(jiàn)光和近紅外光譜范圍。
手動(dòng)激光功率衰減器LPA-M的所有光學(xué)元件都是為高LIDT而制造的，即使在工業(yè)應(yīng)用中與高功率激光器一起使用時(shí)，也能提供穩(wěn)定可靠的性能。
規(guī)格
可變手動(dòng)激光功率衰減器規(guī)格 | |
調(diào)整 | 手冊(cè) |
輸入和輸出凈孔徑 | 8 mm |
尺寸（高x寬x長(zhǎng)） | 57 x 72 x 105 mm |
產(chǎn)品信息
項(xiàng)目 | 設(shè)計(jì)波長(zhǎng) | 激光損傷閾值 | 衰減范圍 | 冷卻系統(tǒng) |
LPA-M | 200-300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 350-2300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M-W | 200-300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 水 |
LPA-M-W | 350-2300 nm | >500MW/cm^2 10 ns @ 1064 nm | 0,01 - 70% | 水 |
LPA-M-W | 1064 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 1030 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 532 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 515 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 水 |
LPA-M-W | 343 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 水 |
LPA-M-W | 355 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 水 |
LPA-M-W | 266 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 水 |
LPA-M-W | 257 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 水 |
LPA-M | 1064 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 1030 nm | 10 J/cm2 (10 ns @ 1064 nm) | 0,1 - 98 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 532 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 515 nm | 5 J/cm2 (10 ns @ 532 nm) | 0,1 - 98 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 343 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 355 nm | 3 J/cm2 (10 ns @ 355 nm) | 0,2 - 96 % | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 266 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
LPA-M | 257 nm | 2 J/cm2 (10 ns @ 266 nm) | 0,5 - 95% | 無(wú)源，導(dǎo)電 |
